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Bruker EOS LIBS
所屬分類: 雷射元素光譜分析儀 LIBS
概述:

高性能雷射引導元素分析儀

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詳細介紹

 

手持式雷射引導光譜(HH-LIBS)
手持式 LIBS 分析儀,用於Al, Ti, Mg 合金的分類
HH-LIBS技術適用於合金牌號等級快速分析辨別(alloy grade ID)和化學成分分析;特別是含 Li,Mg,Al 或 Si的輕元素合金。相比於手持式XRF, EOS分析輕元素的速度是前者的約 10 倍。
最多一天的教育訓練就可以輕鬆掌握操作技巧。
速度快是僅僅優勢的一方面。
EOS將給您準確的、再現性佳的結果數據,極度可靠。此外,友善的使用者數據傳輸將方便您輕鬆地創建報告與資料庫。

HH-LIBS 和 HH-XRF:
物理學角度上講,HH-LIBS HH-XRF是自然的互補的,每種技術都有其優勢測量的元素和合金類型。 HH-LIBS適合快速測量的低原子序數元素,如鹼性(Li,Na,和鹼土金屬(Mg 但不適合測量高原子序數元素,如難熔元素(Nb,Mo,W ,。另一方面 HH-XRF,適合測量高原子序數的元素,但不適合測量低原子序數元素如Mg,Al,Si。這使得 HH-LIBS成為測量輕合金,如Mg,Al 和 Ti合金的理想技術;而 HH-XRF是測量標準合金,如不銹鋼,高溫合金等的理想技術。

 

應用包含:
金屬分類和估值
指紋識別
材料確認鑑定和牌號庫
(PMI)
高性能輕元素測量能力
Li, Be, Mg, Al, Si

 
EOS特點:
直覺的圖標按鈕
多級用戶登錄賬號管理和用戶識別
設備性能檢測功能
突發模式平均功能
類型標準化
檢測與標號識別基於先進的化學計量學算法
指紋光譜識別模式(指紋光譜
ID模式)
 
EOS 硬體特點:
氣流光學防護技術
Air-Flow Optics ShieldTM:
HH-LIBS 與其它光學技術一樣,為了獲得更準確的分析結果,需要讓設備前端盡量靠近被測樣品表面,它們之間的距離越短越好。激光燒蝕階段產生的粉塵就成為內部光學器件受污染的一個重要因素。隨著時間的增加,粉塵在光學器件表面逐漸累積,緩慢減弱通過的光。如果沒有及時清理,將會導致精準度下降的問題。 Bruker  EOS具有獨一無二的氣流光學保護技術 “Air-Flow Optics Shield” ,可以在光學器件表面形成一個持續的空氣保護層,有效阻止粉塵堆積,從而讓 EOS一直保持非常理想的工作狀態。
 

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